产地:韩国;
型号:RTP-1200;
RTP-1200小型真空快速退火炉(RTP/RTA)为韩国进口的快速退火炉。
该仪器:尺寸小巧,使用风冷、无须水冷,电流要求不高(3安培),性价比高,使用方便,非常适合科研院所的科研使用。
技术规格:
- 加热方式:红外卤素钨灯,600W;
- 卤素红外灯数量:4支;
- 最快升温速率:100℃/秒;
- 最快降温速率:50秒(1000℃ → 400℃);
- 最高温度:1200℃;
- 温度精度:+/-0.3℃
- 最大样品尺寸:20 x 20mm;
- 退火环境:真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢气等);
- 真空泵及极限压力:机械泵,10-3Torr水平(选配);
- 电压:220 V,单相;
- 仪器尺寸:400*300*450mm (W*D*H);
- 质量:净重30Kg;
仪器特点:
- 可在真空/不同气氛/空气不同环境下,对样品进行快速热处理;
- 温控精度高;
- 适合高校或研究所科研使用;
- 无须额外的冷却系统;
- 紧凑的台式设计;
- 仪器操作方便,样片装取容易;
- 价格合理,高性价比;
应用领域:
- 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);
- 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);
- 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);
- 硅化 (Silicidation);
- 扩散 (Diffusion);
- 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);
- 离子注入后退火 (Implant Annealing);
- 电极合金化 (Contact Alloying);
- 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);
- 合金熔点分析;
- 薄膜沉积;
等等…
参考用户:
北京大学、天津大学、吉林大学、西安交通大学、南京大学、湖南大学、中科院北京纳米能源所、中科院苏州纳米所、苏州新磊半导体等...